摩尔定律的关键突破：Intel、台积电、ASML的EUV与封装技术在CSTIC上海大会的先进制造与封装主题讨论中，ASML的研发副总裁Anthony Yen强调了EUV光刻技术的重要性。他指出，EUV是当前唯一能处理7nm及以下工艺的工具，被认为是突破摩尔定律瓶颈的关键因素，其市场表现强劲，如2019年第四季度ASML售出的53台EUV NXE：3400系列已实现1000万片芯片生产。三星电子紧跟步伐，已采用EUV设备制造10nm DRAM芯片，并计划在2021年广泛应用，推动更先进的DRAM工艺。台积电研发副总裁Doug Yu则将目光投向Chiplet小芯片系统封装技术，认为这能有效延长摩尔定律的生命力。台积电的LIPINCONTM技术，以8GB/s/pin的高速数据传输，旨在优化芯片性能，并计划在2021年批量生产3D SoIC封装技术，以提升高性能芯片的性价比。Intel院士Ravi Mahajan引用Yole的数据预测，先进的封装市场到2024年将达440亿美元规模，这推动Intel在2.5D和3D封装领域加快部署。Intel的EMIB多芯片互联技术正努力推进至30-45nm，而3D Foveros则瞄准20-35nm的工艺水平。这些先进技术的发展，无疑在维护和推动着摩尔定律的持续演进，展现出半导体行业对于突破技术瓶颈的不懈追求。 台积电7nm EUV工艺如何助力集成双模5G基带? 答：集成双模5G基带的必要性在于省电、减小发热与空间占用</ SOC集成5G基带是为了优化能效，降低设备的整体能耗，减少因多块芯片带来的发热问题，并节省内部空间，以便容纳更多元器件或提升电池容量，以实现更高效、紧凑的设计。台积电7nm EUV工艺：集成双模5G的幕后英雄</ 5G基带芯片的体积较大，集成挑战显著。 euv光刻机难还是原子弹难? 答：光刻机之所以那么贵，是因为在它身上结合了很多涉及芯片制造的全球顶尖公司技术，比如三星、台积电、英特尔等，还有数不清的相关产业制造等等，在芯片的整个生产过程中将涉及到 ic 设计、ic 制造与ic 封测这三大环节，其中最大的难点和关键在于如何将电路图从掩模上转移至硅片上，而这个过程就是通过光刻来... 台积电2021年的5nm Plus工艺将如何超越Intel的7nm EUV工艺? 答：然而，台积电并未坐视对手进击，他们早已提前布局，2021年Intel的7nm工艺面世之际，台积电的5nm Plus工艺也将同步准备就绪，预计将具备性能和能效的双重优势。在半导体技术上，台积电已经实现了7nm工艺的量产，并且今年会进一步升级为第二代7nm工艺，采用EUV光刻技术，而5nm节点的推进更为迅速，风险试产已... 台积电今年可获得18台极紫外光刻机 ,台积电抢购光刻机的原因是什么... 答：而且在全球范围内，具备生产光刻机的企业屈指可数，冲破天也只有四家。 可想而知光刻机制造过程之艰难。众所周知，台积电也是全球数一数二的芯片代工厂，它能够有现在的成绩，跟它拥有不少EUV光刻机设备有很大的关系，就连华为、苹果等手机巨头都需要跟台积电合作。 就可以想到光刻机的珍贵性了。而且... 2021年台积电5nm Plus工艺将如何超越Intel 7nm EUV工艺? 答：这款工艺不仅在性能和能效上占据优势，且基于对5nm技术的深入研发，台积电已经在Fab 18工厂进行了风险试产，并有望在2020年第二季度实现商业化量产。台积电在工艺上的实力不容小觑，他们去年已经量产了7nm工艺(N7+)，今年将升级至第二代7nm工艺，且将运用EUV光刻技术。2020年，他们将目光转向5nm节点，... 台积电如何保持7nm、5nm工艺的领先地位? 答：据台积电2019年的数据，单年研发费用就达到了惊人的30亿美元，同比增长4%，占其年营收的8.5%，研发人员超过6300人，同比增长5%。这种投入规模甚至超过了诸多顶级科技公司的平均水平。未来几年，台积电的研发力度不减，预计2020年研发投入将增加至33.7亿到35.2亿美元，再次刷新纪录。5nm工艺的量产采用EU... 台积电为何能保持先进工艺领先优势? 答：研发人员阵容强大，高达6354人，较前一年增长5%，研发投入和人力规模已超越众多顶级科技巨头。台积电的雄心壮志并未止步，预计2020年的研发投入将达33.7亿至35.2亿美元，再次刷新纪录。5nm工艺的量产，标志着台积电全面采用EUV光刻技术，预计可为其带来至少30亿美元的营收。不仅如此，台积电还在积极研发5nm... SK海力士明年底量产的EUV工艺内存性能如何? 答：SK海力士明年将采用EUV光刻机量产第四代内存全球领先的光刻机供应商ASML的EUV光刻机因其独特性，目前主要应用于7nm及以下的逻辑芯片生产，如台积电和三星的CPU、GPU等。然而，内存芯片市场也将迎来EUV技术的应用。SK海力士近日宣布，其计划在2023年下半年开始，利用EUV光刻机在韩国利川厂区的M16工厂生产第... SK海力士将在多大节点的内存工艺上使用EUV光刻机? 答：内存市场的新动态：SK海力士跟进EUV潮流随着ASML的EUV光刻机在7nm以下制程中的重要性日益凸显，全球顶级芯片制造商如三星、台积电和Intel纷纷投入巨资，单台高达10亿元的EUV光刻机已成为生产新工艺的关键。内存工艺的微缩化趋势也不甘落后，SK海力士，全球第二大DRAM供应商，正在研发新一代1a nm工艺的内存... 台积电突然宣布了,光刻机再获进展,三星开始着急了吗? 答：台积电公开表明了第三季度的营收情况，可以看出同比以往还上涨了不少，值得注意的是5nm芯片就为营收贡献了10亿美元左右，这也表明了5nm 芯片的市场是非常的庞大的。并且台积电对于光刻机也是加大引进的力度，台积电方面表示，预计在2021年，台积电EUV光刻机要达到50台的数量，台积电这样做可能是为了让产能... 相关内容：：